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膜厚仪F3-sX系列

F3-sX 系列膜厚仪F3-sX 系列膜厚仪能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米,而这种较厚的薄膜与较薄的薄膜相比往往粗糙且均匀度不好;波长选配F3-sX系列使用近红外光来测量薄膜厚度,即使有许多肉眼看来不透光(例如半导体)。 F3-s980 是波长为980奈米的版本,是为了针对成本敏锐的应用而设计,F3-s1310是针对重掺杂硅片、GaAs或InP等不透明基片与减薄片的良好设计,F3-s155

  • 品牌:Filmetrics
  • 型号:F3-sX系列

F3-sX 系列膜厚仪


F3-sX 系列膜厚仪能测量半导体与介电层薄膜厚度到3毫米,而这种较厚的薄膜与较薄的薄膜相比往往粗糙且均匀度不好;


波长选配

F3-sX系列使用近红外光来测量薄膜厚度,即使有许多肉眼看来不透光(例如半导体)。 F3-s980 是波长为980奈米的版本,是为了针对成本敏锐的应用而设计,F3-s1310是针对重掺杂硅片、GaAs或InP等不透明基片与减薄片的优化设计,F3-s1550则是为了超厚的薄膜设计。

附件

附件包含自动化测绘平台,一个影像镜头可看到量测点的位置以及可选配可见光波长的功能使厚度测量能力薄至15奈米。


型号厚度范围*波长范围
F3-s98010µm - 1mm960-1000nm
F3-s131015µm - 2mm1280-1340nm
F3-s155025µm - 3mm1520-1580nm

厚度范围 (n=1.5)*

 

1nm
10nm
100nm
1µm
10µm
100µm
1mm
10mm


 

F20 系列
F3-s980
VIS Extension
F3-s1310
VIS Extension
F3-s1550



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